本標準等效采用國際標準ISO 12218《印刷技術——過程控制——膠印印版制作》。新泰科儀器INTEKE.CN這是一個涉及膠印曬版質(zhì)量控制的操作性很強的標準。制定本標準的目的在于統(tǒng)一曬版工序的基本條件、操作規(guī)范和質(zhì)量要求。這個標準在我國還是第一次制定。附錄A是本標準的附錄。附錄B～附錄E是提示的附錄。

　　本標準由全國印刷標準化技術委員會提出并歸口。

　　本標準起草單位：北京印刷學院 中國印刷科學技術研究所中國印刷總公司。

　　本標準主要起草人：袁樸 李家祥 岳德茂 廉潔。

　　ISO（國際標準化組織）是由各國標準化組織（ISO成員國）組成的世界性的標準化專門機構。制定國際標準的工作通常由ISO的技術委員會來完成。各成員團體若對某技術委員會已確立的標準項目感興趣，均有極參加該委員會的工作。與ISO保持聯(lián)系的各國際組織（官方或非官方的）也可參加有關工作。在電工技術標準化方面，ISO與國際電工委員會（IEC）保持密切合作關系。

　　由技術委員會提出的國際標準草案提交各成員團體表決。國際標準需取得至少75％參加表決的成員團體的同意才能正式通過。

　　國際標準ISO 12218是由印刷技術委員會（TC 130）制定的。

　　附錄A是本國際標準的標準的附錄。附錄B～附錄E是提示的附錄。

　　生產(chǎn)膠印版材時，要在支持體（鋁基）上涂一定厚度的感光膜，如果版材的感光膜是在版材生產(chǎn)廠預先涂布的，就叫做預涂感光版，簡稱PS版。膠印版材上的感光涂層可以是陽圖型（用于陽圖網(wǎng)目調(diào)膠片），也可以是陰圖型（用于陰圖網(wǎng)目調(diào)膠片）。有些陽圖型膠印版材能同時用于陰圖，叫做陰陽轉換型版材。

　　制作膠印印版時，通過接觸曝光的方法，將網(wǎng)目調(diào)膠片上的圖文信息傳遞到膠印版材上。其它膠印制版方法，如利用反射或透射原稿投射到版材上曝光或直接書寫等制版方法，不包括在本標準之內(nèi)，但可使用本標準的基本原理。

　　曝光前，一般用真空曬版機使網(wǎng)目調(diào)膠片的乳劑面與版材感光涂層緊密接觸，所用照射光由漫射光和直射光組成。漫射光的好處是不易將陽圖膠片的邊緣、劃痕和灰塵顆粒曬到印版上，但要注意，在膠片和印版接觸不良的部位，漫射光會使圖文轉移木良。

　　曝光時，版材的光學擴散作用和漫射光會減小陽圖型版材上最細微層次的寬度，使版材上的圖像元素（如網(wǎng)點）比網(wǎng)目調(diào)膠片上的圖像元素�。欢鴮τ陉巿D型版材，同樣的物理現(xiàn)象則會使印版上的網(wǎng)點大于網(wǎng)目調(diào)膠片上的網(wǎng)點。

　　曝光后、顯影前，印版涂布層曝光部位和未曝光部位的顏色是不一樣的。

　　印版曝光后的顯影是清洗印版上非印刷部位的感光層，即陽圖版的曝光部位和陰圖版的末曝光部位。

　　印版的制作質(zhì)量受以下參數(shù)影響：

　　——環(huán)境條件：溫度、濕度、紫外光、灰塵；

　　——光源照度和均勻度，特別是真空條件；

　　——顯影液的化學成分、溫度和濃度；

　　——顯影機毛刷和輥子的狀態(tài)；

　　——顯影速度（顯影的時間）；

　　——后處理條件。

　　顯影后，印版上印刷部位和非印刷部位的顏色對比要比顯影前更加明顯。

　　曝光、顯影后，修版、涂膠前，可進行烤版或后曝光處理。版材經(jīng)曝光顯影后就成為待用印版。修版時，可刪除或增加圖像元素。涂膠時，將一層膠狀液體薄薄地涂在印版的圖像面上，目的是保護印版表面，防止在印刷過程中上臟�？景婊蚝笃毓馓幚硎抢�用加熱增強感光涂層抵御化學腐蝕和機械磨損的能力，提高耐印力。

　　確定陽圖型版材的最佳曝光有三個重要條件：

　　a)曝光必須有足夠的照度，使得膠片的邊緣及其勝跡不被轉移到印版上，保持版面的干凈；

　　b）曝光要適量，以保證圖像高光部位的小網(wǎng)點不損失；

　　c）由于曝光也決定階調(diào)值，是工藝控制中十分重要的環(huán)節(jié)，因此，無論什么類型的膠印版材和什么樣的處理條件，都要對曝光進行控制，使膠片到印版的隊調(diào)值減少量保持穩(wěn)定。

　　實踐中發(fā)現(xiàn)，在網(wǎng)線數(shù)為70cm－1或更少時，一次曝光可滿足條件a）和b），其曝光量明顯比可能產(chǎn)生最佳分辨力（但也容易產(chǎn)生臟跡）的曝光量大。此外，條件c）可以通過觀察挑選出的某一合適的細線讀數(shù)來達到。

　　那些圖像元素小于25μm的周期性或非周期性細小網(wǎng)點，用一次曝光不能達到條件a)和b）的要求。這時，就需要采用二次曝光，即第一次曝光達到或接近最佳分辨力，再用防曝光過度蒙版進行第二次曝光，這種附加的曝光可清除版面上的勝跡。

　　可用細線圖標確定陽圖型印版的曝光范圍，這個曝光范圍確保從膠片到印版的階調(diào)值減小量是可以重復的。在一定范圍內(nèi)，印版上網(wǎng)點階調(diào)值的減少量是細線讀數(shù)的線性函數(shù)，該函數(shù)取決于印版分辨力。任何膠印印版，在給定曝光、顯影條件下，都可作出細線讀數(shù)與曝光量對數(shù)的關系曲線，也就是階調(diào)與曝光的關系特性。由曲線的斜率可測算出曝光量的變化對應的階調(diào)值的變化。因此，斜率越大，曝光寬容度越小。

　　用于控制印版制作過程的細線圖標是由一組線寬見微米到幾十微米的幾何圖標組成的，用它來測試印版的分辨力。圖標中細線的占空比并不是1∶1，通常是1∶9、3∶5或1∶4。實踐證明，在不同的曝光量作用下，細線讀數(shù)受線寬占空比的影響不大。必須認識到，細線圖標的讀數(shù)依賴于細線間的灰霧深淺程度，它不能明顯高于測控條上任一部位的密度。考慮到這個問題，也可用另一種細線寬度是連續(xù)變化的單一圖標，它在曬版完成的同時就能看到印版制作的效果。由于在印版制作和顯影時有方向效應，因此，最好是取相互垂直的細線讀數(shù)的平均值，或者采用圓形細線圖標。這里要注意，細線讀數(shù)是指膠片上細線標的寬度。

　　決定陰圖型版材的曝光量有三個因素：

　　1）曝光量應足夠強，以達到足夠的耐印力；

　　2）曝光量又不可過大，要防止從網(wǎng)目調(diào)膠片轉移到印版的階調(diào)值過分增加，或者暗調(diào)的細小部分損失；

　　3）從網(wǎng)目調(diào)膠片轉移到印版上的階調(diào)值增加量必須控制在允許的范圍內(nèi)。

　　通常依據(jù)版材商推薦的數(shù)據(jù)確定陰圖型版材的曝光量，以連續(xù)調(diào)梯尺讀出的梯級數(shù)來表示。最佳曝光量一旦確定，細線圖標就能幫助監(jiān)測以后的曝光效果是否一致。但必須注意，細線圖標不能用來作為確定曝光量的主要依據(jù)。

　　有些用戶在使用需要進行高強度顯影處理的高耐印力涂層版材和自動顯影機時，為獲得所期望的階調(diào)復制，他們所用的曝光量比生產(chǎn)廠家推薦的曝光量要低些。

　　有的印版可能要利用后曝光或烤版的方法提高耐印力。在這種情況下，版材制造商會為提高耐印力推薦一個可接受的較低的曝光量以及后曝光或烤版范圍。這樣可使階調(diào)值的增加量低于其它方法。

　　連續(xù)調(diào)梯尺不僅可以用來決定陰圖型版材的曝光量，還可以用于評價顯影過程。印版層次是一個有用的參數(shù)，它描述的是在給定的印版制作條件下印版涂層對曝光量的反應。印版層次的變化表明顯影條件或印版涂層已經(jīng)有所變化。

　　附錄A為標準的附錄，

　　附錄B～附錄E為提示的附錄。

　　1.范圍

　　本標準規(guī)定了用于膠印印版制作過程控制的術語、測試方法和技術要求。

　　本標準適用于金屬PS版；適用于接觸曝光的真空曬版機、連曬機和自動顯影機。

　　本標準不適用于光學投影和直接書寫制版，雖然其原理可應用于類似技術；

　　本標準不適用于調(diào)頻網(wǎng)屏，雖然其階調(diào)值的一些特性可用于類似技術。

　　2.引用標準

　　下列標準所包含的條文，通過在本標準中引用而構成為本標準的條文。在本標準出版時，所示版本均為有效。所有標準都會被修訂，使用本標準的各方應探討使用下列標準最新版本的可能性。

　　GB／T 11500－1989 攝影透射密度測量的幾何條件

　　GB／T 11501－1989 攝影密度測量的光譜條件

　　GB／T 179341－1999 印刷技術 網(wǎng)目調(diào)分色片、樣張和印刷成品的加工過程控制第1部分：參數(shù)與測量方法

　　3.定義

　　本標準的有關術語按漢語拼音順序排列。

　　本標準在給出術語定義的同時，也給出計量單位，定義中無量綱的單位為回。

　　3．1 PS版 presensitized offset plate

　　預先在版基表面涂布感光涂層的膠印版材。

　　3．2 曝光 exposure

　　利用光能照射，并持續(xù)使感光涂層產(chǎn)生光化學反應的過程。單位：J／m2。

　　3．3 曝光工序 exposure step

　　對膠印版材進行曝光以產(chǎn)生光化學反應的步驟。

　　3．4 曝光寬容度 exPosure latitude

　　產(chǎn)生可接受結果的曝光量范圍的最大最小量之比。單位：1。

　　3．5 測控條 control strip

　　一維排列的控制塊集合。

　　3．6 反射密度 reflactance density

　　以10為底反射系數(shù)R倒數(shù)的對數(shù)〔log10（1／R）〕。單位：1。

　　3．7 反射系數(shù)（R） reflectance factor（R）

　　從印樣上測出的反射光通量與在同樣位置上從理想漫反射體上測出的反射光通量之比。單位：1。

　　3．8 膠片的正負性 film polarty

　　空白部位與實地部位分別對應印刷品的非印刷部位與印刷部位的膠片，稱為陽圖型膠片（正片）；空白部位與實地部位分別對應印刷品的印刷部位和非印刷部位的膠片，稱為陰圖膠片（負片）。


　　3．9 膠印版材 offset plate

　　表面經(jīng)過涂布處理，能用來制作膠印印版的平面單張版材。

　　3． 10 膠印印版 offeet printing forme

　　其印刷部位親墨、非印刷部位親水的膠印印版。

　　注：膠印版材要經(jīng)過曝光、顯影和后處理等過程后才成為膠印印版。

　　3．11 接觸不良現(xiàn)象 out－of－contact phenomenon

　　由于相互接觸的膠片和版材之間有雜質(zhì)或氣泡，使得網(wǎng)目調(diào)膠片上的圖像元素向印版上轉移不實的現(xiàn)象。

　　3．12 接觸曝光 contact exposure step

　　膠印版材與網(wǎng)目調(diào)膠片緊密接觸進行曝光的過程。

　　注：通常采用真空方法達到緊密接觸。

　　3．13 烤版 baking

　　一種提高印版涂層耐印力的熱處理方法，它可以提高印版抵御化學腐蝕和機械磨損的能力。

　　3．14 控制塊 control patch

　　為測量和控制而制作的參照塊。

　　3．15 連曬機step and repeat machine

　　能在印版上進行連續(xù)重復接觸曝光的設備。

　　3．16 連續(xù)調(diào)梯尺 continuous tone step wedge

　　密度值由小到大線性排列的連續(xù)調(diào)控制塊。

　　3．17 曬版機 vacuum frame； contact frame； exposure frame

　　能夠完成接觸曝光的真空曬版設備。

　　3．18 透射系數(shù)（T） transmittance factor

　　透過被樣品遮蓋的測量光孔的光通量與透過沒有樣品遮蓋時的測量光孔的光通量之比。單位：1。

　　3．19 透射密度 transmittance（optical） density； transmission density

　　以10為底透射系數(shù)T倒數(shù)的對數(shù)〔log10（1／T）〕。單位：1。

　　3．20 網(wǎng)點邊線寬度 fringe width

　　對應所涉及印刷方式規(guī)定的最小網(wǎng)點中心密度10％和90％密度等值線之間的平均距離。單位：μ m。

　　3．21 網(wǎng)目調(diào)膠片 half－tone film

　　用于網(wǎng)目調(diào)印刷工藝的帶有網(wǎng)點或線條圖像元素的膠片。

　　3．22 網(wǎng)線寬度 screen width

　　 網(wǎng)線數(shù)的倒數(shù)。單位：cm。

　　3．2．3 網(wǎng)線數(shù)（網(wǎng)線頻率） screen ruling （screenfrequenc）

　　網(wǎng)點或線條等圖像元素，在產(chǎn)生最高值方向上，單位長度內(nèi)的個數(shù)。單位： cm－1。

　　3．2．4 細線讀數(shù) microline reading

　　在給定條件下，網(wǎng)目調(diào)膠片上陽圖或陰圖細線的最小寬度。它們轉移到印版上至少有50％的細線長度是清晰可見的。當它們呈現(xiàn)在印版上時，陽圖細線為亮底黑線，陰圖細線為黑底亮線。單位：μm。

　　3．2．5 細線圖標 microline target

　　 有符合密度要求的陽圖或阻圖細線、線的寬度是經(jīng)精心設計所組成的控制塊。

　　3．2．6 陽圖型網(wǎng)目調(diào)膠片階調(diào)值（網(wǎng)點面積） tone value （do area）

　　計算公式為：

　　A（％）＝100×[l-10^-(Dt-D0)]／[1－10^{－（Ds－D0）}]

　　式中：D0——透明網(wǎng)目調(diào)膠片的透射密度；

　　Ds——實地部位的透射密度；

　　Dt——網(wǎng)點的透射密度。

　　單位：%。

　　3．27 陽圖型膠印版材 positive－acting（offset printing） plate

　　用于陽圖分色片的膠印版材。

　　3．28 陰圖型網(wǎng)目調(diào)膠片階調(diào)值（網(wǎng)點面積） tone value（dot area）

　　計算公式為：
A（％）＝100－100×[1－10^－（Dt-D0)]／1－10^{－（Ds－D0）}]

　　式中：D0——透明網(wǎng)目調(diào)膠片的透射密度；

　　Ds——實地部位的透射密度；

　　Dt——網(wǎng)點的透射密度。

　　單位：%。

　　3．29 陰圖型膠印版材 negative-acting (offset printing)plate

　　用于陰圖分色片的膠印版材。

　　3．30 印版分辨力 platemaking resolution

　　在一次曝光過程中，陽圖和陰圖細線圖標能達到的最小細線讀數(shù)。單位：μm。

　　3．31 印版制作 platemaking，Prevaration of the offset Printing forme

　　將膠印版材制成印版的過程。

　　3．32 印版制作層次 platemaking gradation

　　曝光量與膠印印版殘留膜厚度的關系的量度。單位：1。

　　3．33 印刷品上或印版上的階調(diào)值（網(wǎng)點面積） tone value(dot area）

　　單色油墨在網(wǎng)目調(diào)印刷品上的覆蓋表面積的百分比（如果承印物上的光散射或其它光學現(xiàn)象是可以忽略不計的）。計算公式為：

　　A（%）＝100×［1－10^{－（Dt-D0）}］/[1－10^－(Ds-D0)］

　　式中：D₀——印刷承印物非印刷部位或印版上非印刷部位的反射密度；

　　D_s——實地部位的反射密度；

　　D_t——實測網(wǎng)點部位的反射密度。

　　單位：％。

　　注：

　　1 階調(diào)值與絕對網(wǎng)點面積含義等同；

　　2 同義詞“網(wǎng)點面積”只適用于網(wǎng)目調(diào)工藝；

　　3 本定義可用于提供某些印版階調(diào)值的近似值；

　　開通常假設這些階調(diào)值與圖文處理產(chǎn)生的分色片上數(shù)據(jù)相同，最后的分色片必須再現(xiàn)這些階調(diào)值。

　　3．3．4 中心密度 core density

　　單個不透明圖像元素（如：網(wǎng)點或線條）中央的透射密度。單位：1。

　　4.技術條件

　　4．1 網(wǎng)目調(diào)膠片質(zhì)量

　　除非另有規(guī)定，網(wǎng)目調(diào)膠片網(wǎng)點中心密度應至少大于空白膠片的透射密度（片基加發(fā)霧）2．5。空白網(wǎng)點中心部位的透射密度不能大于大塊空白部位密度0．1。空白膠片的透射密度最好不高于0．15。應使用透射密度計測量，其光譜范圍應符合GB／T 11501規(guī)定的ISO－1型印刷密度儀要求。

　　網(wǎng)點邊緣寬度不能大于網(wǎng)線寬度的1／40，網(wǎng)點木能有明顯的開裂，網(wǎng)目調(diào)膠片的質(zhì)量根據(jù)附錄A1的要求來評價。

　　注：

　　1 空白膠片密度的技術要求是基于下列情況考慮的：

　　——所有用于印版曝光膠片的空白部位密度不應超過0．1。

　　——0．05表示ISO－1型印刷密度儀一般達到的最低值。為減少使用超出范圍的膠片的影響，網(wǎng)目調(diào)膠片提供者與收貨人之間應有必要的協(xié)議�？截惢驈陀∫矔�使網(wǎng)目調(diào)膠片上透明部位的密度與協(xié)議不一致。

　　2 在實際應用中，如果大面積實地的密度值大于透明膠片密度3．5，那么，網(wǎng)點中心密度值通�？筛哂谕该髂z片密度2．5以上。

　　3 如果使用藍濾色片進行透射密度測量，對于特殊型號的膠片和顯影條件，必須確定由藍濾色片測得的密度值與用ISO－1型印刷密度僅測得的密度值之間的關系。

　　4．2 控制塊

　　在印版制作過程中，應在印版上至少放置一種測控條以便進行監(jiān)控。測控條上應有符合規(guī)定的標出階調(diào)值精確到±1％的網(wǎng)點控制塊。曬版控制塊上的網(wǎng)點形狀應是圓形，網(wǎng)線數(shù)應在50cm－1到70cm－1之間，并且恒定不變，網(wǎng)點中心密度應高于透明膠片密度3．0以上，圓網(wǎng)點邊緣寬度應不大于2μm，用本標準附錄A中A2所列的儀器進行測試。

　　對于陽圖型版材，細線圖標是曝光控制的主要工具，它應與網(wǎng)目調(diào)膠片一起曝光，連續(xù)調(diào)梯尺最好也同時曝光。對于陰圖型版材，連續(xù)調(diào)梯尺是曝光控制的主要工具，它應與網(wǎng)目調(diào)膠片一起曝光，細線圖標最好也同時曝光。細線與空白之間的占空比可選擇從1∶9到1∶2，但在同一圖標上應保持一致。連續(xù)調(diào)梯尺的密度級差應保持0．15或更小。

　　4．3 曝光選擇

　　4．3．1 陽圖型版材

　　對印版制作進行控制，通常是用網(wǎng)點控制塊來控制的，使本著墨的印版上的40％或50％的階調(diào)值小于測控條膠片上相應控制塊的階調(diào)值，見表1。應按5．1和5．2給出的方法對印版和測控條膠片的階調(diào)值分別進行測定。如果有其它測試方法的測試結果與基本測量方法的測試結果相同，則可做為輔助方法替代5．1給出的基本方法。

　　 注：輔助方法見附錄B和附錄C。

　　4．3．2 陰圖型版材

　　根據(jù)版材制造商的建議選擇曝光量，實際使用的曝光量不應低于一個0．15密度組，如果廠商建議值的范圍允許顯影后進行烤版或附加曝光處理，那么實際的曝光量應不低于規(guī)定范圍的下限。

　　注：在這種情況下，從網(wǎng)目調(diào)膠片到印版上的網(wǎng)點階調(diào)值增加量通常符合表2規(guī)定的范圍，在引言最后一段提到的條件下，階調(diào)值的增加量是很小的。

　　

網(wǎng)線數(shù)1）（cm－1)	階調(diào)值減少量
	40％控制塊（％）	50％控制塊（％）
50	2.5～3.5\	3.0～4.0
60	3.0～4.0	3.5～5.0
70	3.5～4.5	4.5～6.0
1)：在該范圍內(nèi)階調(diào)值減少量與網(wǎng)線數(shù)是成正比例的

網(wǎng)線數(shù)1)（cm－1)	階調(diào)值減少量
	40％控制塊（％）	50％控制塊（％）
50	2.5～3.5	3.0～4.0
60	3.0～4.0	3.5～5.0
70	3.5～4.5	4.5～6.0
1)：在該范圍內(nèi)階調(diào)值減少量與網(wǎng)線數(shù)是成正比例的

　　4．4 復制范圍

　　測控條上獨立的、不透明的、直徑大于25μm的網(wǎng)點都應以不變的形狀轉移到膠印印版上。同樣，測控條上直徑大于25μm的陰圖網(wǎng)點（透明的圓形點）也應均勻、穩(wěn)定地轉移到膠印印版上。

　　5.測試方法

　　5．1 膠印印版上的階調(diào)值的基本測試方法

　　用標準的測試儀器（精度為微米級）測定網(wǎng)點面積或直徑，它們可以是：

　　——電子探頭顯微分析儀，

　　——電子掃描顯微鏡，

　　——圖像分析顯微照相機。

　　測定膠印印版上單個圓形網(wǎng)點所占的面積，求出單個網(wǎng)點的平均面積與網(wǎng)線寬度平方值的比，即為該網(wǎng)點階調(diào)值�？筛鶕�(jù)需要計算出多個網(wǎng)點的平均值，并使其精度誤差在±5％以內(nèi)。

　　5．2 測控條上網(wǎng)點控制塊階調(diào)值的測試

　　使用符合GB／T 11500要求的透射密度計，測出膠片片基灰霧密度D0、實地密度Ds和網(wǎng)點部位透射密度Dt，利用有關計算公式計算出階調(diào)值。陽圖網(wǎng)目片和陰圖網(wǎng)目片分別按3．26和3．28定義的公式計算。

　　為了確保足夠的精度，儀器采樣光孔的直徑最好不要小于網(wǎng)線寬度的15倍，但一定木能小于網(wǎng)線寬度的10倍。這個要求也適于用非圓形采樣光孔進行的密度測量。